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美行思遠(yuǎn)藝術(shù)留學(xué)
國(guó)外藝術(shù)院校庫(kù)
共找到55所學(xué)校
帕森斯設(shè)計(jì)學(xué)院 Parsons the New School for Design
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì)室內(nèi)設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:11月1日 常規(guī):1月15日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 100 雅思: 7.0; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院 Rhode Island School of Design
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì)多媒體設(shè)計(jì)陶藝攝影建筑設(shè)...
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:11月1日 常規(guī):2月1日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 93 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
普瑞特藝術(shù)學(xué)院 Pratt Institute
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)工業(yè)設(shè)計(jì)影視制作...
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:11月1,常規(guī):1月5
  • 語(yǔ)言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
紐約時(shí)裝學(xué)院 Fashion Institute of Technology
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)配飾設(shè)計(jì)
  • 申請(qǐng)截止日期:1月1日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 80 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
薩凡納藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院 Savannah College of Art and Design
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì)平面設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)
  • 申請(qǐng)截止日期:rolling
  • 語(yǔ)言要求:托福: 85 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 一般
+ 院校對(duì)比
天普大學(xué) Temple University
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 純藝術(shù)
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:11月1日 常規(guī):2月2日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 79 雅思: 本6.0 研6.5; 申請(qǐng)難度: 一般
+ 院校對(duì)比
奧蒂斯藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院 Otis College of Art and Design
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì)純藝術(shù)
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:12月1日 常規(guī):2月15日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 一般
+ 院校對(duì)比
加州藝術(shù)學(xué)院 California Institute of the Arts
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì)動(dòng)畫(huà)設(shè)計(jì)攝影
  • 申請(qǐng)截止日期:EA:12.2, RD: 1.6
  • 語(yǔ)言要求:托福: 本80 研100 雅思: 本6.5 研7.0; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
芝加哥藝術(shù)學(xué)院 School of the Art Institute of Chicago
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 插畫(huà)設(shè)計(jì)多媒體設(shè)計(jì)攝影
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:11月15日 常規(guī):1月15日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 本:82 研:80 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
馬里蘭藝術(shù)學(xué)院 Maryland Institute College of Art
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 交互設(shè)計(jì)平面設(shè)計(jì)純藝術(shù)插畫(huà)設(shè)計(jì)
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:12月15日 常規(guī):2月1日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 80 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
麻省藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院 Massachusetts College of Art and Design
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì)紡織品設(shè)計(jì)珠寶設(shè)計(jì)
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:12月1日 常規(guī):2月1日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 85 雅思: 本6.0 研6.5; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
羅徹斯特理工學(xué)院 Rochester Institute of Technology
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì)多媒體設(shè)計(jì)攝影
  • 申請(qǐng)截止日期:ED: 11.1, RD: 1.15
  • 語(yǔ)言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 一般
+ 院校對(duì)比
紐約視覺(jué)藝術(shù)學(xué)院 School of Visual Arts
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 插畫(huà)設(shè)計(jì)交互設(shè)計(jì)產(chǎn)品設(shè)計(jì)室內(nèi)設(shè)計(jì)
  • 申請(qǐng)截止日期:EA:12.1,RD: 2.1
  • 語(yǔ)言要求:托福: 本80;研79 雅思: 6.5; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
克蘭布魯克藝術(shù)學(xué)院(匡溪藝術(shù)學(xué)院) Cranbrook Academy of Art
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì)平面設(shè)計(jì)純藝術(shù)
  • 申請(qǐng)截止日期:2月1日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 90 雅思: 7.0; 申請(qǐng)難度: 一般
+ 院校對(duì)比
賓夕法尼亞大學(xué) University of Pennsylvania
  • 優(yōu)勢(shì)專業(yè): 純藝術(shù)
  • 申請(qǐng)截止日期:早申:11月1日 常規(guī):1月5日
  • 語(yǔ)言要求:托福: 100 雅思: N/A; 申請(qǐng)難度: 困難
+ 院校對(duì)比
院校對(duì)比
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