共找到82所學(xué)校
帕森斯設(shè)計(jì)學(xué)院
Parsons the New School for Design
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)室內(nèi)設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)
-
申請(qǐng)截止日期：早申：11月1日 常規(guī)：1月15日
-
語(yǔ)言要求：托福: 100 雅思: 7.0；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院
Rhode Island School of Design
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 工業(yè)設(shè)計(jì)多媒體設(shè)計(jì)陶藝攝影建筑設(shè)...
-
申請(qǐng)截止日期：早申：11月1日 常規(guī)：2月1日
-
語(yǔ)言要求：托福: 93 雅思: 6.5；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
皇家藝術(shù)學(xué)院
Royal College of Art
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)室內(nèi)設(shè)計(jì)工業(yè)設(shè)計(jì)動(dòng)畫(huà)設(shè)計(jì)...
-
申請(qǐng)截止日期：11月13日
-
語(yǔ)言要求：托福: N/A 雅思: 本6.5研6.5-7.0；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
中央圣馬丁
Central Saint Martins
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)室內(nèi)設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)平面設(shè)計(jì)
-
申請(qǐng)截止日期：Rolling（滾動(dòng)錄?。?/span>
-
語(yǔ)言要求：托福: N/A 雅思: 本6.0~6.5 研6.5~7.5；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
普瑞特藝術(shù)學(xué)院
Pratt Institute
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 室內(nèi)設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)工業(yè)設(shè)計(jì)影視制作...
-
申請(qǐng)截止日期：早申：11月1，常規(guī)：1月5
-
語(yǔ)言要求：托福: 79 雅思: 6.5；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
紐約時(shí)裝學(xué)院
Fashion Institute of Technology
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)配飾設(shè)計(jì)
-
申請(qǐng)截止日期：1月1日
-
語(yǔ)言要求：托福: 80 雅思: 6.5；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
哈佛大學(xué)
Harvard University
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 景觀設(shè)計(jì)建筑設(shè)計(jì)工業(yè)設(shè)計(jì)
-
申請(qǐng)截止日期：早申：11月1日 常規(guī)：1月1日
-
語(yǔ)言要求：托福: 100 雅思: N/A；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
薩凡納藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院
Savannah College of Art and Design
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)平面設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)
-
申請(qǐng)截止日期：rolling
-
語(yǔ)言要求：托福: 85 雅思: 6.5；
申請(qǐng)難度： 一般
+ 院校對(duì)比
倫敦時(shí)裝學(xué)院
London College of Fashion
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)攝影
-
申請(qǐng)截止日期：Rolling（滾動(dòng)錄?。?/span>
-
語(yǔ)言要求：托福: N/A 雅思: 6.0-7.0；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
愛(ài)丁堡藝術(shù)學(xué)院
Edinburgh College of Art
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 室內(nèi)設(shè)計(jì)服裝設(shè)計(jì)插畫(huà)設(shè)計(jì)景觀設(shè)計(jì)...
-
申請(qǐng)截止日期：1月15日
-
語(yǔ)言要求：托福: 本92 研92 雅思: 本6.5 研6.5；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
麻省藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院
Massachusetts College of Art and Design
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)紡織品設(shè)計(jì)珠寶設(shè)計(jì)
-
申請(qǐng)截止日期：早申：12月1日 常規(guī)：2月1日
-
語(yǔ)言要求：托福: 85 雅思: 本6.0 研6.5；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
羅徹斯特理工學(xué)院
Rochester Institute of Technology
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 工業(yè)設(shè)計(jì)多媒體設(shè)計(jì)攝影
-
申請(qǐng)截止日期：ED: 11.1, RD: 1.15
-
語(yǔ)言要求：托福: 79 雅思: 6.5；
申請(qǐng)難度： 一般
+ 院校對(duì)比
新南威爾士大學(xué)
The University of New South Wales
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 建筑設(shè)計(jì)
-
申請(qǐng)截止日期：9月30日
-
語(yǔ)言要求：托福: 90 雅思: 6.5；
申請(qǐng)難度： 一般
+ 院校對(duì)比
巴黎國(guó)立高等美術(shù)學(xué)院
école Nationale Supérieure Des Beaux-arts De Paris
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 建筑設(shè)計(jì)攝影影視制作
-
申請(qǐng)截止日期：3月18日
-
語(yǔ)言要求：托福: 無(wú) 雅思: 無(wú)；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
哈德斯菲爾德大學(xué)
University of Huddersfield
-
優(yōu)勢(shì)專(zhuān)業(yè)： 服裝設(shè)計(jì)平面設(shè)計(jì)工業(yè)設(shè)計(jì)建筑設(shè)計(jì)音樂(lè)
-
申請(qǐng)截止日期：8月12日
-
語(yǔ)言要求：托福: N/A 雅思: 6.0；
申請(qǐng)難度： 困難
+ 院校對(duì)比
填寫(xiě)信息下載完整版資料
